- Sections
- C - Chimie; métallurgie
- C23C - Revêtement de matériaux métalliques; revêtement de matériaux avec des matériaux métalliques; traitement de surface de matériaux métalliques par diffusion dans la surface, par conversion chimique ou substitution; revêtement par évaporation sous vide, par pulvérisation cathodique, par implantation d'ions ou par dépôt chimique en phase vapeur, en général
- C23C 16/517 - Revêtement chimique par décomposition de composés gazeux, ne laissant pas de produits de réaction du matériau de la surface dans le revêtement, c. à d. procédés de dépôt chimique en phase vapeur (CVD) caractérisé par le procédé de revêtement au moyen de décharges électriques utilisant une combinaison de décharges couvertes par plusieurs des groupes
Détention brevets de la classe C23C 16/517
Brevets de cette classe: 86
Historique des publications depuis 10 ans
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Propriétaires principaux
Proprétaire |
Total
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Cette classe
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Jiangsu Favored Nanotechnology Co., LTD | 145 |
17 |
Applied Materials, Inc. | 16587 |
11 |
Tokyo Electron Limited | 11599 |
8 |
Lam Research Corporation | 4775 |
8 |
ASM IP Holding B.V. | 1715 |
3 |
The Board of Trustees of the University of Illinois | 2623 |
2 |
Diarotech | 5 |
2 |
Roth & Rau AG | 31 |
2 |
The Trustees of Princeton University | 1129 |
2 |
Universal Display Corporation | 1678 |
2 |
Samsung Display Co., Ltd. | 30585 |
1 |
Pratt & Whitney Canada Corp. | 4215 |
1 |
Micron Technology, Inc. | 24960 |
1 |
Medtronic, Inc. | 9964 |
1 |
Shin-Etsu Chemical Co., Ltd. | 5132 |
1 |
Fraunhofer-Gesellschaft zur Foerderung der angewandten Forschung e.V. | 4569 |
1 |
BIOTRONIK AG | 387 |
1 |
Board of Trustees of Michigan State University | 1141 |
1 |
European Aeronautic Defence and Space Company EADS France | 194 |
1 |
Evatec AG | 152 |
1 |
Autres propriétaires | 19 |